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为何死磕EUV光刻?
过去两年高数值孔径极紫外光刻技术发展迅速,首批系统交付,实验室启动。该技术有分辨率、工艺简化、设计灵活三大优势,将成先进技术关键推动因素。
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高数值孔径EUV光刻
芯片制造
高分辨率
先进技术
半导体行业观察
2026-02-05 09:33
华登国际董事长陈立武荣获2023年IMEC终身创新奖
比利时安特卫普时间5 月 16 日至 17 日,陈立武董事长将在超过2,000 名半导体和深科技高管的陪伴下,在ITF World的颁奖典礼上领奖。
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芯片
半导体
投资界综合
2023-04-19 10:32
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